持久型小型溅射仪
一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，
磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
需要镀膜的样品
1、电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
2、非导电的样品:
由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消 除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消 除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。
持久型小型溅射仪厂家供应技术参数；
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控制方式
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7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
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溅射电源
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直流溅射电源
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镀膜功能
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0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
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功率
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≤1000W
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输出电压电流
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电压≤1000V 电流≤1A
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真空
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机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa
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溅射真空
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≤30Pa
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挡板类型
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电控
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真空腔室
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石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
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样品台
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可旋转φ62 （可安装φ50基底）
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样品台转速
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8转/分钟
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样品溅射源调节距离
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40-105mm
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真空测量
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皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
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预留真空接口
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KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口
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