★ 玻璃钟罩真空腔室,最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察;
★ 复合分子泵和直联旋片泵,大抽速准无油真空系统(分子泵抽速≥400L/S);
★ 两组水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计;
★ 专业真空蒸发电源,数显工作电流和电压,恒流输出;
★ 可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;
★ 衬底可选择加热或水冷,源基距≥300mm;
★ 可调速旋转靶台使薄膜更均匀
★ 可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca,
Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;
★ 7寸显示器定时定点调节电流,达到控制功率效果
★ 具有记忆储存功能,直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果
★ 配置了靶台挡板,可手动调节或自动调节挡板,及时遮挡样品,保证样品效果