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高温蒸镀仪,KT-Z1650CVD,石英+不锈钢腔体,触摸屏控制,工艺储存功能,自动电控挡板保护样品
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到电流密度,使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点,出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。 涡轮分子泵在K950X中作为标准配置,此泵作为机械真空泵的后级泵,真空为全自动控制,真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制,同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。 标准的旋转样品台可进行倾斜调节,非常容易适应各种样品座