大功率溅射仪,桌面式设计,触摸屏控制,石英+不锈钢腔体,溅射距离可调,自动电动挡板可保护样品和清洗靶材。
离子镀膜技术是PVD技术的一种,是指在PVD沉积过程中,被镀材料形成金属或者非金属等离子体(如Ti离子,N离子),等离子体在偏压电场的作用下,沉积在工件表面上。由于离子镀过程中,离子的能量更强,离子绕射性更好,膜层的结合力更好,膜层致密性也更好,膜层性能更好。
离子镀膜技术的应用非常广泛,常见的有:装饰性镀膜,工具模具硬质镀膜以及各种功能膜层。
大功率溅射仪技术参数;
控制方式
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7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
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溅射电源
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直流溅射电源
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镀膜功能
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0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
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功率
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≤1000W
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输出电压电流
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电压≤1000V 电流≤1A
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真空
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机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa
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溅射真空
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≤30Pa
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挡板类型
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电控
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真空腔室
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石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
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样品台
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可旋转φ62 (可安装φ50基底)
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样品台转速
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8转/分钟
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样品溅射源调节距离
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40-105mm
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真空测量
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皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa)
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预留真空接口
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KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口
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