TJ小批量定制科研硬掩膜 硅衬底掩膜 柔性掩膜版激光微结构加工

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掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板分为树脂基板和玻璃基板，玻璃基板主要包括石英基板和苏打基板，根据遮光膜种类的不同，可以分为硬质遮光膜和乳胶。

掩膜版行业发展主要受下游平板显示行业、半导体芯片行业、触控行业和电路板行业的发展影响，与下游终端行业的主流消费电子、车载电子、网络通信、家用电器、物联网、医疗电子等产品的发展趋势密切相关，这也造成了未来几年掩膜版将向更高精度、大尺寸、全产业链方向发展。

掩膜版产业的发展趋势：

1.掩膜版产品趋向高精度化。平板显示方面，随着消费者对显示产品的要求逐步提高，手机、平板电脑等移动终端向着更高清、色彩度更饱和、更轻薄化发展。在半导体方面，中芯国际已经量产14nm，而台积电已量产 5nm 工艺，未来集成电路的制造工艺将进一步精细化，朝 3nm 工艺发展，这对与之配套的掩膜版以及半导体芯片封装用掩膜版提出了更高要求。综上，未来掩膜版产品的精度将日趋精细化。

2.掩膜版产品趋向大尺寸化。大尺寸更多是说平板显示掩膜的发展。自 2007 年液晶电视开始占据主流市场后，其平均尺寸大约按照每年增加 1 英寸的速度平稳增长。根据 IHS 统计和预测， 43 英寸、55 英寸、65 英寸、70 英寸等大尺寸电视出货量逐年增长。 液晶面板类产品尺寸趋向大型化，导致了掩膜版产品尺寸趋向大型化。

硬掩模是一种通过CVD生成的无机薄膜材料，其主要成分通常有TiN、SiN、SiO2等，也被称为HardMask。硬掩模主要运用于多重光刻工艺中，首先把多重光刻胶图像转移到硬掩模上，然后通过硬掩模将最终图形刻蚀转移到衬底上。