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小型真空等离子清洗机，
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
小型真空等离子清洗机
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供电电源 |
AC220V（AC110V可选) |
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工作电流 |
整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵) |
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射频电源功率 |
150W |
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射频频率 |
13.56MHz |
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频率偏移量 |
＜0.2MHz |
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特性阻抗 |
50欧姆，手动匹配 |
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耦合方式 |
电容耦合 |
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真空度 |
≤100Pa |
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腔体材质 |
高纯石英 |
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腔体容积 |
2L(内径110MMX深度220MM) |
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观察窗内径 |
Φ65 |
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气体流量 |
10—100ml/min（其他量程可选） |
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过程控制 |
过程手动控制 |
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清洗时间 |
手动开关 |
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开盖方式 |
铰链侧开式法兰 |
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外形尺寸 |
400x380x360mm |
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重量 |
23Kg |
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真空室温度 |
小于65°C |
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冷却方式 |
强制风冷 |
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标配 |
KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。 |
