KRI 考夫曼 KDC 10
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼 KDC 10: 考夫曼型 Gridded 系列最小型号的. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.
KRI 考夫曼 KDC 10 技术参数
型号
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KDC 10
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供电
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DC magnetic confinement
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- 阴极灯丝
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1
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- 阳极电压
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0-100V DC
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- 栅极直径
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1cm
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中和器
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灯丝
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电源控制
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KSC 1202
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配置
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-
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- 阴极中和器
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Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000
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- 架构
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移动或快速法兰
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- 高度
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4.5'
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- 直径
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1.52'
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- 离子束
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集中
平行
散设
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-加工材料
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金属
电介质
半导体
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-工艺气体
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惰性
活性
混合
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-安装距离
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2-12”
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- 自动控制
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控制4种气体
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KRI 考夫曼 KDC 10 应用领域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE