纳米二氧化硅抛光液研磨液SiO2
13305631332, 13305631650,Qq:1830343958
我公司系列二氧化硅抛光液产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度二氧化硅抛光液,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标:
型号
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外观
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粒径
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含量
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溶剂
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应用
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VK-SP10W
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白色乳液
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10nm
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30%
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水
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精密抛光
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VK-SP20W
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白色乳液
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20nm
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30%
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水
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精密抛光
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VK-SP30W
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白色乳液
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30nm
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30%
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水
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精密抛光
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VK-SP50W
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白色乳液
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50nm
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30%
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水
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精密抛光
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VK-Sp10E
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白色乳液
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10nm
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20%
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乙二醇
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精密抛光
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VK-SP30E
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白色乳液
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30nm
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20%
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乙二醇
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精密抛光
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VK-SP50E
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白色乳液
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50nm
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20%
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乙二醇
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精密抛光
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包装:25kg/桶