高猛钢表面抛光用P-1抛光机，小巧玲珑搬运方便
P-1金相试样抛光机是专业针对金属材料来进行抛光的设备，进而得到光亮如镜面的试样，一般抛光是金相试样{zh1}一样制作程序，试样抛光后可进行进行分析。
一般抛光机可选则两款机型，一款是单盘的一款是双盘的，本章介绍的是单盘的金相抛光设备。
概述
适用于对经磨光后的金属材料进行抛光，可获得光亮如镜的金属表面，供在显微镜下观察与测定金相组织。
金相试样抛光的技术要求
抛光操作的关键是要设法得到{zd0}的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会zcj组织。这两个要求是矛盾的。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的{zh0}的办法就是把抛光分为两个阶段进行。首先是粗抛，目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有{zd0}的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛（或称终抛），其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。
抛光时，试样磨面与抛光盘应{jd1}平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。
为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，{zh0}不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛xc。
精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。
技术参数
1. 抛盘直径 φ200mm
2.转速：1400r/min或900r/min（定制）
3.电源：380v、50Hz或220v、50Hz （定制）
4.外型尺寸 360X300X320mm
5.净重 16Kg
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