未来我国电镀工业的发展趋势
未来我国电镀工业的发展趋势基本可归纳为以下五点:
1、装饰性和功能性电镀工艺技术将不断发展.我国随着汽车、电子、家用电器、航空、航天工业、建筑工业及相应的装饰工业的发展和人们对美化生活需求的提高,对电镀产品的装饰性和功能性的需求将有明显的增加.
2、某些传统装饰性电镀可能被喷涂、物lq相沉积等取,功能性电镀产品需求则有上升的趋势.
3、某些污染严重的电镀工艺,可能被清洁的电镀工业所取,如无氰电镀、三价铬镀铬、镉、铬镀层将有上升的趋势.
4、某些性能好、无污染的表面工程的高新技术将会进入我国市场.
5、企业管理水平低,绝大部分电镀企业仍沿袭粗放型经营管理模式,适应市场变化能力差。除部分合资企业和出口企业外,大部分企业没有健全的工业管理体系,多数企业缺乏镀液分析和镀层检测仪器和技术力量。
真空电镀具有超强附着力
真空电镀采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较gd产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊、工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。需经过产品表面清洁、去静电、喷底漆、烘烤底漆、真空镀膜、喷面漆、烘烤面漆、bao装等工艺流程。 真空电镀适用范围较广,如ABS料、PC料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵。