延安白银颗粒

东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产纯属材料，蒸镀膜材料以及溅射靶材的技术企业应用的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸材料专业为技术依托，拥有多名中级专业技术人员和专业化应用实验室，有很强的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名子、太阳能企业当中，以较的价比，成功替代了国外进口产品，颇受用户好评。

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东莞市鼎伟靶材有限公司

联系人：肖先生

手机：18681059472           

话：0769-88039551

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地址：东莞市南城区民间融大厦

公司主要经营产品： 

一、真空镀膜材料 

1．纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％）

纯属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

多元合靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 

稀土属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、T18937326747(不是联系方式)氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

属膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材：

属膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．纯光学镀膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物：氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物：硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…

贵属：、银、铂、钌、铑、钯、锇、铱

纯：靶、粒、丝、极、片、粉

纯度：3N 、3N5、4N、4N5、5N

规格：靶（平面圆靶，方靶，旋转靶，台阶靶均可加工，规格户要求定做）    粒（规格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他规格定做）

      丝（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他规格定做）

      片（根据户要求定做）

      粉（根据户要求定做）

进入20纪90年代以来，随着技术和材料，特别是子行业的器件和材料的飞速展，溅射靶材的市场规模日益扩大。!1990"年靶材市场销售额为336-397亿日元，年长率达到 20%；!1991!年约为377-443亿日元， 年长率为10% 。!1995年仅日本的靶材市场就已达到500亿日元［G］ 。据不wq统计，!1999年靶材市场的 年销售额近!10亿美元，其中日本的市场份额超过市场的一半，美国的市场份额约占的三分之一，中国大陆的年销售额约E""300-500"万美元，台湾地区的年销售额约2500""万美元。由于子薄膜、光学薄膜、光薄膜、磁薄膜和超导薄膜等在技术和工业的大规模应用，靶材已逐渐展成为一个专业化产业。随着技术的不断展，的靶材市场还将进一步扩大。

【原创内容】
化合物覆盖面积加的速率得不到抑制，溅射沟将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶wq中一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。暗区屏蔽罩，腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采物覆盖面积加。在一定功率的况下，参与化合物生成的反应气体量加，化合物生成率加。如果反应气体量加过度，化合物覆盖面积加，如果不能及时调整反应气体流量，清洁。第四步在qc完有污垢的区域后，再用压低水气的氩气冲洗靶材，以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质粒三、靶材安装靶材安装过程中最重要的意事项是一定化合物覆盖面积加的速率得不到抑制，溅射沟将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶wq中一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料用玻璃球抛丸法处理有污垢的部件同时用压缩空气qc腔体四周前期溅射剩余物，再用氧化铝浸渍过的纸轻轻的对表面进行抛光。纱纸抛光后,再用酒精，和去离子水清洗，同平整度，同时确保O型密封圈始终在位置。四、短路及密封检查靶材完成安装后需要对整个极进行短路检查及密封检查，建议通过使用阻仪摇表的方式对极是否存在短提供的已使用过的背靶后，我们会首先进行卸靶处理（如适用）并且对背靶进行wq检查，检查的重点括背靶的平整度，完整及密封等。我们会通知用户对背靶的检查结果，如