三级纳米碳酸钙分散机,纳米碳酸钙研磨分散机,纳米碳酸钙分散设备,碳酸钙分散机,超细分散机,纳米分散机
纳米碳酸钙又称超微细碳酸钙。标准的名称即超细碳酸钙。纳米碳酸钙应用最成熟的行业是塑料工业主要应用于gd塑料制品。可改善塑料母料的流变性,提高其成型性。用作塑料填料具有增韧补强的作用,提高塑料的弯曲强度和弯曲弹性模量,热变形温度和尺寸稳定性,同时还赋予塑料滞热性。纳米碳酸钙用于油墨产品中体现出了优异的分散性和透明性和极好的光泽、及优异的油墨吸收性和高干燥性。纳米碳酸钙在树脂型油墨中作油墨填料,具有稳定性好,光泽度高,不影响印刷油墨的干燥性能.适应性强等优点。
纳米碳酸钙的分散难点:纳米碳酸钙分散到水中或者溶剂当中,容易出现抱团的现象,导致物料粒径变大,分散效果不佳,产品改性不充分。
如果使用普通的分散设备,很难将纳米碳酸钙分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用CIK{zx1}研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达纳米碳酸钙还原至纳米级。
CIK研磨式分散机,是由胶体磨+分散机结合而成的设备,主要是为了解决纳米级物料的分散,如:纳米碳酸钙、纳米氢氧化镁、纳米氧化铝、石墨烯、碳纳米管等纳米级物料的分散。
NKD2000系列研磨分散设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
NKD2000系列三级纳米碳酸钙分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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通常情况,需要拆卸机器进行清洗
NK2000系列驱虫药混悬胶体磨的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
高剪切胶体磨主要用途:
高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。
NK2000系列阿达唑混悬液管线式胶体磨设备选型表:
注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到{zd0}允许量的10%
胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。