一、硅材料冲洗用高纯水设备应用范围概述:
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产 配料用纯水
黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
二、典型工艺流程
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线sj器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线sj器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)({zx1}工艺)
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线sj器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) ({zx1}工艺)
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线sj器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)({zx1}工艺)
处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线sj器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
三、达到标准
显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准